等到电源线一搭,庞大的电力开始正式输入,洁白无瑕的机体外壳上亮起来一个四方、简约、内置的操控面板。
只是这会儿控制面板内并没有导入光刻程序,因为陈决造的只是裸机,想要让它进行运作流片还得导入特定的EDA设计程序才行。
好在光电所这边最不缺的就是芯片设计程序!
在边上讨论了片刻后,林卫国就在陈决的指导下,将一块大型数据盘插入了机器当中,顺带从里面读取了一份最新型的芯片设计图出来。
“果然是原子级别的精度!”
“连XYZ轴的参数都注明了极限位移能够达到纳米!”
“纳米的干式光刻?我感觉自己就像是在做梦!”几个陪同操作的技术人员看到显示器上的数据后,都忍不住惊叹了起来。
反倒是林卫国在旁边有些苦涩地抿了抿嘴。
因为纳米这个加工精度完全超出了他们所的芯片设计图纸精度上限!
要知道,现目前的集成电路设计图可是动不动就包含上百亿个晶体管。
像最新型的麒麟系列9000芯片,内置了CPU和GPU两种功能,它的晶体管数量更是达到了150亿以上。
这还只是运用了传统的5纳米工艺!
一旦提高到纳米,相当于把加工精度在原有基础上提升了50倍。
光刻的精度越高,晶体管之间的间隔缝隙被缩小,一块芯片上能被利用的空间就会被近乎无限一样放大。
加工精度高了50倍以后,单块同样大小的麒麟芯片上的晶体管数量,可不是简单的1×50那样提升。